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第740章 秦总指导路线从来没错过(第2页)

193纳米以下光源技术,困扰了整个光刻机行业很多年!

尼康、佳能这些光刻机巨头,坚定地走157纳米光源道路,结果……技术路线错误,耗费巨资研制出来的157纳米光刻机,没得到一个订单!这些巨头也因此而衰落。

后世大名鼎鼎的ASmL,就是因为押宝浸润式光刻机,取得了圆满成功,赢家通吃,彻底占领光刻机市场!

秦川不懂造芯片,但是基本的路线还是知道的。而且,他还知道其中一个关键人物:林本坚!

林本坚,湾湾人,1970年从湾湾毕业之后,就去了俄亥俄州立大学读研,老师就是光刻机领域里的技术泰斗:帕特里克-怀特博士。在导师的带领下,他们团队研制出来了深紫外光源,从248纳米进步到了193纳米。

林本坚毕业后,先加入了Ibm公司,之后又在Ibm旗下的领创公司工作,继续捣鼓光刻机技术,当光刻机技术在193纳米光源面前停滞不前的时候,他提出来了浸润式技术,也就是把光源和镜头泡在水里,从而将光源波长缩短。

可惜,他四处碰壁,Ibm不要,之后他新加入的台积电也不要,他只能跑去给默默无名的ASmL推销,然后,ASmL就成功了!

嗯,这个人也必须要弄到手,如果他不来,就干掉他,总之,这条技术路线,不能让其他光刻机厂商走,尤其是ASmL!

“秦总,秦总!”

秦川这才发现,自己刚刚走思了!

徐教授深深地呼吸了一口气:“秦总,您坚持走这条技术路线?”

“没错,详细我,这条路线是最正确的,等到这种光刻机研发成功,我们芯片制造到45纳米都不用愁了,再往后,我们就可以研发EUV光刻机!”

只有十几纳米波长的极紫外光,是刻蚀十纳米以下芯片最合适的光刻机,不过……技术难度也相当大,得用十年以上的时间来研发。而浸润式光刻机,就是最好的过渡产品!

“好!”

秦总别的本事没有,指导技术路线方面,从来没错过,哪怕是跨专业指导!

既然秦总坚持,那就一定有他的道理,只要听秦总的就可以了!

“嗯,徐教授,加油,我们的电子技术能否成为世界第一,就看你的了!”

要么不做,要做就做到世界第一!

徐教授点头:“好!”他也是因为这个,在接到召唤之后,才会立刻赶来的原因,既然要搞,就是瞄准世界第一的!

“组建团队,选择工作地点这些,有需要集团帮助的,随时开口!咱们会全力支持,让你们安心工作。”

“嗯,我会去大学,把之前的团队找来,工作地点,在大学附近找个地方就行……”

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